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Hakuto离子蚀刻机20IBE-J应用于硬盘 GMR 磁头

  • 发布日期:2021-02-27 07:42
  • 有效期至:长期有效
  • 招商加盟区域:全国
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详细说明
 硬盘磁头, 是硬盘读取数据的关键部件, 磁头的好坏在很大程度上决定着硬盘盘片的存储密度.

 

GMR 磁头的使用了磁阻效应更好的材料和多层薄膜结构, 这比以前的传统磁头和MR(Magneto Resisive)磁阻磁头更为敏感, 相对的磁场变化能引起来大的电阻值变化, 从而实现更高的存储密度.

 

某硬盘磁头制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于硬盘磁头镀制GMR磁头导电材料和磁性材料薄膜构.

 

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 技术参数

离子蚀刻

Φ4 inch X 12片

基片尺寸

Φ4 inch X 12片

Φ5 inch X 10片

Φ6 inch X 8片

均匀性

±5%

硅片刻蚀率

20 nm/min

样品台

直接冷却,水冷

离子源

Φ20cm 考夫曼离子源

 

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-J 的核心构件离子源采用的是伯东公司代理美国 考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的射频离子源 RFICP220

伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:

离子源型号

RFICP 220

Discharge

RFICP 射频

离子束流

>800 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

20 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

流量

10-40 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

30 cm

直径

41 cm

中和器

LFN 2000

* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量

 

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-J 的样品台可以 0-90 度旋转, 实现 GMR 磁头均匀地接受离子的轰击, 进而实现提高 GMR 磁头的加工质量.

 

若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :

上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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